EUV光刻技术背景EUVL是制造下一代半导体芯片的关键步骤。EUV光是由高纯度锡产生的高温等离子体产生的。固体锡在液滴发生器内熔化，该仪器在真空室中每分钟连续产生超过300万个27µm的液滴。平均功率为25kW的二氧化碳（CO2）激光器用两个连续脉冲照射锡液滴，分别使液滴成形并电离。最初，产生了数千...
中国青年报北京5月18日电（中青报·中青网记者 樊未晨）由国家发改委、教育部、人力资源和社会保障部共同编制的《“十四五”时期教育强国推进工程实施方案》（以下简称《方案》）今天发布。《方案》明确，教育强国推进工程紧紧围绕基础教育、职业教育、高等教育三大板块，聚焦关键领域关键任务，推动带动性好、示范性强...
